●氏名	土 橋 　 剛 （ドバシ　ツヨシ）
●所属機関名	旭川工業高等専門学校
●所属学科名	電気情報工学科
●職名	教授
●研究業績 【著書】
【学術論文】	1　バルブ金属（Hf,Zr,Nb,Ta）2層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と拡散現象の検討〔電子情報通信学会論文誌C,J92−C,N0.6,225-228〕(2009) 2 バルブ金属（Hf,Zr,Nb）2層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と拡散現象〔電子情報通信学会論文誌C,VOL.J90-C,No.3,291-293〕(2007) 3　Nb/Hf２層陽極酸化膜キャパシタの電気的特性〔電子情報通信学会論文誌CVol.J86-C,No.1,89-91〕(2003) 4　周期的Al/Hf積層膜を陽極酸化した薄膜キャパシタの損失特性〔電子情報通信学会論文誌C−�U,Vol.J79-C-�U,No.5,197-199〕(1996) 5　The Oxidation Process and Dissipation Factor of Al/Ta/Hf multilayered Anodized Thin-Film Capacitor〔Electronics and Communication in Japan(ScriptTechnica,Inc.),Part2,V ol.77 No.12,59-66〕(1994) 6　Al/Ta/Hf多層陽極酸化膜キヤパシタの損失特性と酸化過程〔電子情報通信学会論文誌C−�U,Vol.J77-C-�U,No.10,413-P418〕(1994) 7　Ta介存層によるAl/Hf2層陽極酸化膜キヤパシタの特性改善〔電子情報通信学会論文誌C-�U,Vol.76-C-�U,No.7,527-529〕(1993) 8　A Study on the　Oxidation State of Bi−layered Anodized　Films〔Transactions　of　IEICE，Japan,Vol.E74,No.10,3357-3359〕(1991) 9　Hf−Ta−Hf3層陽極酸化膜キヤパシタの電気的特性とTaマイグレーション抑制効果〔電子情報通信学会論文誌C−�U、Vol.J73-C-�U,No.5,293-301〕(1990) 10　Influence of the Ta Mi- gration on Dielectric Properties of Anodized Al−Ta（N）−AI Tri-Layered Oxide Films〔ElectronicsandCommunicationsinJapanScriptaTechnica,Vol.72,No.9pp.21〜28〕(1989) 11　金属多層膜の陽極酸化と物質輸送〔電子情報通信学会論文誌C−�U、Vol.J72-C-�U,No.6,617-624〕(1989) 12　Al-Ta（N）-Al　3層陽極酸化膜の誘電特性に及ぽすマイグレーションの影響〔電子情報通信学会論文誌C,Vol.71-C,No.11,1522-1528〕(1988) 13　Al-Ta（N）-Al　3層陽極酸化膜のAES／XPS分析による検討〔電子情報通信学会技術研究報告,CPM88-39,23-26〕(1988) 14　Aｌ-Nb-Al多層薄膜の陽極酸化〔電子情報通信学会論文誌C,Vol.71-C,No.7,1078〜1080〕(1988) 15　An AES　Study on the Anodlzation　of　Al−Mo−AI Multilayer　Films〔Transactions　of　IEICE,Japan,Vol.E71,No.4,266〜267〕(1988) 16　Effects　of　Heat-treatment on Dielectric Properties of　Anodized　Al−Ta Double 0xide Lyer Thin−Film Capacitors〔Electronics　and　Com-Munlcations　in　Japan，Scrlpta　Technica,Vol.71,No.4pp.98〜105〕(1988) 17　金属3層薄膜の陽極酸化と物質移動〔電子情報通信学会技術研究報告,CPM87-43,7〜10〕(1987) 18　Al-Ta二層陽極酸化膜キヤパシタの誘電特性に及ぼす熱処理効果〔電子情報通信学会論文誌C,Vol.J70-C,No.4,533-540〕(1987)
【研究紀要】	1　Al-Ta二層陽極酸化膜のStoichiometryと電気的特性〔旭川工業高等専門学校研究報文　第23号pp.153-160〕(1988) 2　二層誘電体薄膜キヤパシタの電気的特性〔旭川工業高等専門学校研究報文　第22号pp.91-100〕(1985)
【国際学会等発表】
【国内学会等発表】	1　Nb拡散によるTi陽極酸化膜の伝導度制御〔平成20年度電気・情報関係学会北海道支部連合大会　83〕(2008) 2　Nb拡散によるTa,Ti陽極酸化膜の伝導度制御の検討〔電子情報通信学会２００８年ソサイエティ大会　C-6-5〕(2008) 3　2層陽極酸化膜の損失特性と拡散現象の検討〔２００７年電子情報通信学会総合大会　C-6-5〕(2007) 4　2層陽極酸化膜の損失特性と物質輸送〔平成18年度電気・情報関係学会北海道支部連合大会　p.118〕(2006) 5　Zr/Hf２層陽極酸化膜キャパシタの電気的特性〔平成１５年度電気関係学会北海道支部連合大会講演論文集　p.74〕(2003) 6　Nb/Hf２層陽極酸化膜キャパシタの電気的特性〔２００２年電子情報通信学会総合大会講演論文集C-6-7〕(2002) 7　Ta/Hf積層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と酸化過程の検討〔２００１年電子情報通信学会総合大会論文集p.22〕(2001) 8　Ta/Hf積層陽極酸化膜キャパシタの電気的特性〔１９９９年電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集２　p.9〕(1999) 9　高温相と低温相の積層構造を考慮したBi系酸化物超伝導体の抵抗温度特性シミュレーション〔１９９７年電子情報通信学会総合大会p.28〕(1997) 10　周期的Al/Hf積層膜の陽極酸化によるキャパシタの電気的特性〔１９９６年電子情報通信学会総合大会講演論文集p.24〕(1996) 11　Al-Ta−Hf多層陽極酸化膜キヤパシタの電気的特性と酸化過程〔電子情報通信学会春季全国大会講演論文集p.5-24〕(1993) 12　Hf−Ta系2層陽極酸化膜キヤパシタの電気的特性について〔電子情報通信学会春季全国大会講演論文集p.5-168〕(1989) 13　Hf−Ta−Hf3層陽極酸化膜キヤパシタの特性〔電子情報通信学会春季全国大会講演論文集p.5-169〕(1989) 14　オージェ電子分光によるAl／Mo／Al多層膜の陽極酸化過程の検討〔電子情報通信学会春季全国大会講演論文集p.2-159〕(1988) 15　陽極酸化法による多層誘電体薄膜キヤパシタ1．Al-Ta（N）-Al系〔電子情報通信学会春季全国大会講演論文集p.2-139〕(1988) 16　Al-Ta(N)-Al(Ta)三層陽極酸化膜キヤパシタの電気的特性〔電気関係学会北海道支部連合大会講演論文集p.113〕(1987) 17　Al-Ta二層誘電体薄膜キヤパシタの熱処理特性（�U）【電気関係学会北海道支部連合大会講演論文集　p.38】(1985) 18　二層誘電体キヤパシタの特性に及ぼす熱処理効果〔電気四学会北海道支部連合大会講演論文集p.96〕(1983) 19　陽極酸化による二層電体薄膜キヤパシタの電気的特性�T．Ta−Al二層膜の場合〔電気四学会北海道支部連合大会講演論文集p.54〕(1982) 20　Al-Ta二層金属薄膜のAuger Depth Profileについて〔第43回応用物理学会学術講演会講演予稿集p.193〕(1982)
【解説・総説】
【特許】
【その他】